反滲透純凈水設備在水處理中注意事項簡介，通過向技n術人員咨詢，小編為大家整理了相關內(nèi)容。
反滲透純凈水設備在水處理中注意事項
第一，反滲透純凈水設備在電子行業(yè)的應用
電子元器件的需要大量高品質(zhì)的純水、超純水，電子級超純水是目前世界上純凈品質(zhì)要求高的水。電子工業(yè)用的超純水，例如廣泛用于計算機硬盤，集成電路芯片，半導體，顯像管，液晶顯示器，線路板等用的純水，對水的純度要求較高，對出水電阻率的要求達到上(MΩ.cm)級。
隨著電子工業(yè)的發(fā)展對高純水提出了越來越高的要求。例如，制作16K位DRAM允許水中TOC(總有機碳)為500ppb、金屬離子為1ppb、≥0.2μm的顆粒為100個/毫升。而制作16M位DRAM時，則要求TOC<5ppb、金屬離子<0.2ppb、水中≥0.1μm顆粒數(shù)為0.6個/升。
可以說在電子級超純水制備系統(tǒng)中匯集了當前水處理技術先進的工藝和設備，如超濾、微濾、反滲透、膜脫氣、電去離子(EDI)等，其中反滲透裝置是整個純水、超純水制備系統(tǒng)工程中關鍵的設備。它能有效地去除原水中97%以上的溶解性無機物質(zhì)、99%以上的相對分子質(zhì)量大于300的有機物、99%以上的包括細菌在內(nèi)的各種微粒和95%以上的二氯化硅。
反滲透工藝在純水、超純水制備系統(tǒng)工程中的應用，不但能提高了產(chǎn)水品質(zhì)，降低成本，而且防止環(huán)境污染，有力地推進了電子工業(yè)的進步，同時也促進了純水、超純水技術的發(fā)展。
在我國RO應用于電子工業(yè)水處理的報道，早可追溯到1981年，RO技術就己成功應用于大規(guī)模集成電路超純水制備。此后，不斷出現(xiàn)RO制取超純水工藝流程研究和更大規(guī)模超純水制備的報道。2004年4月，國家海洋局杭州水處理技術開發(fā)中心為樂金飛利浦曙光電子有限公司設計和建成的13Om3/hRO彩色顯象管廢水回收項目是RO純水制備技術在電子工業(yè)領域應用的拓展。該項目是迄今我國第一個較大規(guī)模進行彩色顯象管企業(yè)廢水回用項目。
混凝劑主要用于除去水中微小粒徑的懸浮物膠體。因為這些微小的顆粒在水中難以沉淀，而且難以去除。它是通過在原水中投加混凝劑，使之與水中懸浮物及膠體生成較大絮片，然后通過多介質(zhì)過濾器過濾去除。當原水中鐵的含量和懸浮物的含量較小時，預處理可以不采用此裝置。當水中懸浮物及膠體物質(zhì)的含量比較高時，一般需要使用混凝劑添加裝置。
第二，單級反滲透純凈水設備在水處理中的應用與注意事項
反滲透工藝在純水、超純水制備系統(tǒng)工程中的應用，不但能提高了產(chǎn)水品質(zhì)，降低成本，而且防止環(huán)境污染，有力地推進了電子工業(yè)的進步，同時也促進了純水、超純水技術的發(fā)展。
第三，反滲透純凈水設備使用前應注意的問題
反滲透純凈水設備要求用自來水為水源，用戶多將其與自來水相接就使用，在安裝時沒考慮預留清洗口。由于設備的自動化程度高，用戶往往認為可以象其它家用設備一樣，用時只要開機關機就行，缺乏專人管理，使用過程中多無運行記錄或記錄不全。運行時多為間歇式，亦無適當?shù)谋ｐB(yǎng)措施，直到設備的產(chǎn)水量很小或者TDS很高時才發(fā)現(xiàn)問題，但為時已晚，此時采取措施，通常設備性能只能恢復60%～70%的水平，已造成了永久損失。發(fā)現(xiàn)問題時多在的高峰期，往往造成停產(chǎn)和不必要的經(jīng)濟損失。
同時，我們在使用之前還要注意以下因素：
首先，自備一套余氯比色測定計。目前所使用的反滲透純凈水設備的膜多為低壓的聚酰胺膜，該膜在使用中不耐氯，尤其在重金屬離子的作用下，易氧化造成永久性的損壞。自來水多含重金屬離子，在活性炭失效后，極易損壞膜。自來水余氯和有機物的含量是變化的，僅僅靠計算和估計是不夠的，活性炭的失效要以測試為準，這樣既可避免過早更換的浪費和過遲更換引起的膜損壞。該比色計的價格便宜，操作也方便�？稍谟嬎愕母鼡Q期前10d開始每天測定。
當?shù)刈詠硭乃|(zhì)報告是必不可少的，雖然國家有一個自來水標準，但各地的自來水是不同的�？梢詮淖詠硭精@得近期的水質(zhì)報告，在購買反滲透純凈水設備時提供給設備廠商，由廠商根據(jù)水質(zhì)報告中的余氯計算確定活性炭的大致更換周期，根據(jù)水質(zhì)報告中的鈣、鎂等離子的濃度計算確定回收率的范圍、可能的污染及清洗的方法。
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